吉时利仪器公司（KEI）,，同Novellus系统公司宣布他们将在位于San Jose的Novellus客户集成中心开始合作。合作的主要目标是：基于吉时利先进的S600半导体直流参数测试平台来开发适于铜及低K材料的电气工艺诊断测试。这种测试将会大大节省铜工艺开发的时间并有利于提高Novellus及吉时利客户的生产率。
铜及低K材料具有高速及低功耗的特点，无线通讯行业正快速与基于这种工艺的半导体技术相结合。这种趋势对于行业发展非常关键, 将使半导体器件体积越来越小，功耗却越来越大。
“设计规则的变化已不能完全遵照按比例来改变性能。因此，新材料正被加速引荐到这个行业中来满足对性能及功耗提升的要求。”吉时利总经理Mark Hoersten表示：“在半导体量产的工艺开发，工艺集成及控制过程中采用新的铜及低K材料，这一举措意味着行业将面临巨大的新的挑战。我们同Novellus的合作，会因为Novellus在新材料方面的专长，而加强吉时利电特性测量方面的领先能力，更好地为全球无线通信集成电路客户服务。”
铜及低K材料具有高速及低功耗的特点，无线通讯行业正快速与基于这种工艺的半导体技术相结合。这种趋势对于行业发展非常关键, 将使半导体器件体积越来越小，功耗却越来越大。
“设计规则的变化已不能完全遵照按比例来改变性能。因此，新材料正被加速引荐到这个行业中来满足对性能及功耗提升的要求。”吉时利总经理Mark Hoersten表示：“在半导体量产的工艺开发，工艺集成及控制过程中采用新的铜及低K材料，这一举措意味着行业将面临巨大的新的挑战。我们同Novellus的合作，会因为Novellus在新材料方面的专长，而加强吉时利电特性测量方面的领先能力，更好地为全球无线通信集成电路客户服务。”
