Micronic Sigma7500激光图形描绘机 接获亚洲主要半导体厂商订单
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2006-02-24 00:00
前言:
全球激光光罩图形描绘机的领先供货商Micronic Laser Systems AB(瑞典斯德哥尔摩股市代号:MICR)日前宣布,该公司的全新激光图形描绘机Sigma7500接获来自一家亚洲主要半导体厂商的第一个订单。
Micronic总裁暨执行长Sven Lofquist表示:"此一订单的取得是我们与客户双方自2005年开始全面性合作后的成果展现;在经过严格的验证及品质评估程序之后,客户决定采用Sigma7500系统。"
"Micronic目前是全球最大的图形描绘机供货商。"Sven Lofquist进一步表示:"与Sigma技术在相关产业的接受度不断提升相对应,我们正积极强化在先进半导体光罩制造领域之图形描绘机供货商的地位。"
Sigma7500与Sigma7300植基于相同的技术平台,可为先进光罩提供更高的精确度与生产力,因此有效拓展其在90、65和45奈米制程技术节点上二元光罩和相位移光罩(PSM)中的应用。
除了可满足尖端技术节点对分辨率与精确度愈来愈严苛的要求之外,以激光技术为基础的Sigma7500更提供数倍于e-beam图形描绘机的生产力,可降低光罩成本与来自光罩厂的周转时间,进而降低IC的开发成本,并缩短其开发周期。
Sigma7500采用248奈米准分子激光和Micronic专属的SLM (Spatial Light Modulation) 技术,因此可达到超高分辨率与生产力。极短的描绘时间得益于其大量并行输出位图案的优异能力,以先进光罩为例,只须2至3小时的时间, 这并独立于设计密度及OPC。