近日，应用材料公司推出了新的Applied Centura® Mariana™ Trench Etch系统，这是深槽刻蚀纳米制造技术领域内的一次重大飞跃。Mariana是第一个能够刻蚀80:1长宽比深槽的系统，这个关键性能使客户可以扩展DRAM电容到70nm技术节点。双频调谐功能够精密控制刻蚀轮廓和临界尺寸，使刻蚀深度不一致性小于2%。同时，系统独特的等离子化学反应提供了全所未有的硬掩膜选择性。
应用材料公司资深副总裁，刻蚀、清洁、前道和离子注入集团总经理Tom St. Dennis表示：“通过和客户的合作，我们开发了业界最先进的深槽刻蚀技术，其刻蚀结构的长宽比高出现有系统30%。这个共同开发的项目使我们的Mariana 系统具有先进的技术性能和优化的生产能力。”
Tom St. Dennis还补充道：“目前已经有客户选购了Mariana系统用于70nm DRAM的生产。进一步
提高电容深槽工艺的关键就在增加长宽比，客户们都非常赞赏Mariana系统具有支持多代DRAM生产的能力。”
欲了解更多Applied Centura Mariana Trench Etch系统的情况，请访问：
www.appliedmaterials.com/products/trench_etch_4.html.
应用材料公司Metron事业部还为Mariana™ Trench Etch系统提供经过预先认证的Marathon™ 8500尾气处理系统。该系统具有大流量处理能力、高可靠性和高冗余，其拥有成本比传统的尾气处理方式降低了超过50%之多。
应用材料公司是纳米制造技术方案的全球领导厂商。公司广泛的产品包括创新的设备、服务和软件，它们被应用于半导体芯片、平板显示器、太阳能电池、软性电子产品和节能玻璃面板的制造。应用材料用纳米制造技术来改善人们的生活。想要了解更多应用材料的信息，请访问公司网站www.appliedmaterials.com
应用材料公司资深副总裁，刻蚀、清洁、前道和离子注入集团总经理Tom St. Dennis表示：“通过和客户的合作，我们开发了业界最先进的深槽刻蚀技术，其刻蚀结构的长宽比高出现有系统30%。这个共同开发的项目使我们的Mariana 系统具有先进的技术性能和优化的生产能力。”
Tom St. Dennis还补充道：“目前已经有客户选购了Mariana系统用于70nm DRAM的生产。进一步
提高电容深槽工艺的关键就在增加长宽比，客户们都非常赞赏Mariana系统具有支持多代DRAM生产的能力。”
欲了解更多Applied Centura Mariana Trench Etch系统的情况，请访问：
www.appliedmaterials.com/products/trench_etch_4.html.
应用材料公司Metron事业部还为Mariana™ Trench Etch系统提供经过预先认证的Marathon™ 8500尾气处理系统。该系统具有大流量处理能力、高可靠性和高冗余，其拥有成本比传统的尾气处理方式降低了超过50%之多。
应用材料公司是纳米制造技术方案的全球领导厂商。公司广泛的产品包括创新的设备、服务和软件，它们被应用于半导体芯片、平板显示器、太阳能电池、软性电子产品和节能玻璃面板的制造。应用材料用纳米制造技术来改善人们的生活。想要了解更多应用材料的信息，请访问公司网站www.appliedmaterials.com
