当前位置： CompoTech China > 策略&营运（旧版） >
得克萨斯州奥斯汀2014年2月14日电 /美通社/ -- 纳米图案成形系统与解决方案的市场与技术领导者 Molecular Imprints Inc. (MII) 今天宣布已签约将半导体压印光刻设备业务出售给日本东京的佳能 (Canon Inc.)。佳能目前生产并销售 KrF 准分子和i线照明光学光刻平台。为打入尖端高分辨率图案成形光刻设备市场，佳能2004年开始研究纳米压印技术。自2009年以来，该公司一直与 MII 及一家量产型半导体制造商携手采用 MII 的 Jet and Flash™ 压印光刻 (J-FIL™) 技术来进行开发。
Molecular Imprints 首席执行官 Mark Melliar-Smith 表示：“四年前我们与佳能共结商业联盟以向半导体行业提供技术主导型的低成本纳米光刻解决方案，我很高兴如今我们在追求这一目标上取得了巨大进步。在此成功的基础上，双方合并是自然而然的。”
2011年，佳能进入其“全球优良企业计划”(Excellent Global Corporation Plan) 的第四阶段，该计划的其中一项战略是通过全球多元化来实现业务发展。佳能首席技术官 Toshiaki Ikoma 博士说：“收购 MII 将加强我们的‘工业及其他’业务部门。由此带来的创新半导体制造机会让我们感到非常兴奋，我们期待在得克萨斯州奥斯汀建设出先进的技术开发能力。”
得克萨斯大学奥斯汀分校的 SV Sreenivasan 和 Grant Willson 两位教授所研发的技术为 Molecular Imprints 创立之初的开疆辟土奠定了基础。过去几年中，Molecular Imprints 一直与佳能及其他半导体行业基础设施合作伙伴携手让整个行业继续依照摩尔定律的指导方向，冲破分辨率的限制，同时避免光学和极紫外线 (EUV) 光刻成本负担的加重。最初用于生产的 J-FIL 技术计划在未来两年内用于高级闪存。
佳能将把 J-FIL 运用到先进半导体制造中，与此同时，该合并协议还允许分拆出一家新公司，保留原来的“Molecular Imprints”名称，而与佳能共同拥有的关键人才和权利也能保留在 MII 的知识产权组合中，再加上多个系统平台能够支持消费电子和生物医学应用对纳米级图案成形不断加大的需求，这些都形成了抢占领先地位的优势。Molecular Imprints 首席运营官大卫-吉诺 (David Gino) 称：“我们期待为显示器、硬盘驱动器，生物技术和其他新兴市场带来低成本纳米级制造解决方案。”在与佳能的合并协议完成之前，新的 Molecular Imprints 将被分拆出来，吉诺先生则将担任这家新公司的首席执行官。
此项合并预计于2014年4月完成，须获股东及政府批准。
Molecular Imprints, Inc. 简介
Molecular Imprints, Inc. (MII) 是高分辨率、低拥有成本纳米图案成形系统和解决方案的技术领导商。MII 将凭借其创新的 Jet and Flash™ 压印光刻 (J-FIL™) 技术成为半导体设备大批量图案成形解决方案的全球技术领导商，并为新兴市场显示器、硬盘驱动器和生物技术等行业的发展提供支持。MII 通过提供价格适中且规格可扩展至小于20纳米的压印光刻解决方案来支持纳米级图案成形。
Molecular Imprints, Inc. (MII) 是高分辨率、低拥有成本纳米图案成形系统和解决方案的技术领导商。MII 将凭借其创新的 Jet and Flash™ 压印光刻 (J-FIL™) 技术成为半导体设备大批量图案成形解决方案的全球技术领导商，并为新兴市场显示器、硬盘驱动器和生物技术等行业的发展提供支持。MII 通过提供价格适中且规格可扩展至小于20纳米的压印光刻解决方案来支持纳米级图案成形。
