在交流合作中发展我国半导体产业

本文作者:admin       点击: 2003-07-01 00:00
前言:
 ’99国际半导体设备与展览暨研讨会于99年3月17日—18日在北京中国国际贸易中心举行,为我国集成电路行业了解国外先进的技术提供了一个舞台,也为国外半导体业界更好地了解中国提供了一次机会。在展览会开始前夕本报专门走访了SEMI中国活动协调小组主任俞忠钰。谈话内容整理如下。 



  半导体产业的发展状况回顾 



  信息产业部关于今年我国集成电路的发展方针中是“以芯片设计为重点,推动集成电路产业的发展,确保“909”工程等建成投产。”这反映了国家对集成电路产业的重视,也反映了当前工作的重点是从设计入手。 对于“909”工程项目,按照当时的规划,包括一条芯片生产线(上海华虹NEC公司8英寸0.35微米)、一批先进水平的集成电路设计公司、一条硅单晶的生产线(8英寸硅单晶中试线,已在北京有色金属研究院建成)三个内容。1999年2 月23日,在上海0.35微米、8英寸集成电路生产线已经投入试生产,投产的产品是同步的DRAM,这也是当前的一种主流产品。总体上我国集成电路产业正在蓬勃发展中,集成电路发展中一个很重要的支撑条件是半导体设备和材料,在“908”项目中曾经有六个设备和仪器的项目,在“909”工程中虽然没有安排设备的项目,但安排了一个8英寸硅材料的项目。说明国家是一直把半导体设备和材料当作一个重要的支撑条件来抓。 目前有色院12英寸硅单晶已推出样品;设备方面我国仍有一批单位在锲而不舍地进行光学曝光机、电子束曝光机、离子注入机、干法刻蚀机、化学汽相淀积设备、超净设备等的攻关研制,这是发展集成电路制造业的一个基本条件。当然在改革开放的条件下,我们不可能也没有必要把所有的设备都完全自已来做,但有一些最基本的材料如硅单晶、一些关键的设备(有些是国外对中国进行禁运的)我们一定要花力量来做。在这一方面如45所和中科院成都光电所正在研制光刻机、长沙48所正在研制离子注入机、北京700厂正在研制干法刻蚀设备和化学汽相淀积设备、四川南光机器厂正在研制真空设备、苏州净化设备厂正在研制的超净设备等。如何更好地发挥这支力量的作用,提高国产设备的技术水平并使之在我国集成电路生产中得以应用,这是我国集成电路产业健康发展的重要基础。半导体设备的工艺重要性不单是指作为一个机器所代表的价值,半导体制造中的很多工艺技术其实已经固化在设备之中了,设备已经代表了一种相对完整的解决方案。有专家认为设备中已经固化了半导体工艺技术的60%—70%,由此可见设备在半导体制造过程中的作用。 我国半导体规模不是很大,但作为技术支撑条件又非它不可,原苏联的半导体设备全靠自己研制提供,虽然原苏联还有一些东欧国家支撑,但既便是这样,作为一个产业也仍然发展不起来。在市场经济的环境中,全靠自己研制和发展是不行的,受到市场环境的制约,但什么都不搞也不行,这样又会受到一些西方国家卡脖子,包括现在刚投产的上海华虹中的一些仪器设备都曾受到一些限制,总的看来这是一个比较难处理的一个问题。 谈到我国半导体设备和材料的标准规范问题,俞总认为总体说来我国的半导体设备和材料实际上是按国外相应的标准规范来进行的,只不过目前我国的基础较差,好多材料国内没有,如一些特种气体由于我国用量相对较少,有的是进入国内后又需要进行再分装。关于集成电路产品,我们还缺少国内自己的产品品牌,我国大多数电子整机企业的产品引进国外大公司的产品,作设计改进的状况,国内集成电路产品多数处在逆向开发的水平,缺少设计上的创新。如何引导这些集成电路企业进行创新的正向设计?一个是市场问题,是指如何与整机厂结合起来搞设计开发,占领集成电路的市场;一个是技术基础问题,如何拥有和发展自己的IP(知识产权)。 



  缘何设备和材料 国产化难有进展? 



  我国半导体设备行业到底应该怎样发展?就目前的情形而言,许多半导体设备厂商采用的办法是与其它的设备开发联系起来,不单做半导体设备,还做其它用途的设备。否则就会由于市场的容量太小而难以生存。比如说苏州净化设备厂,做半导体制造用的净化设备的同时还做机关宾馆的中央空调、做医院无菌操作箱;信息产业部电子第45所也做元件设备;700厂做彩管设备;信息产业部电子第48所也做磁性材料设备等。 国家在半导体设备的发展中是起一个什么样的作用呢?俞总谈到“ 八五”期间国家科技攻关有一些项目,半导体设备方面在“908”工程中有六个设备仪器的项目,投资总额不大;而材料方面的项目经费在数千万人民币左右。但在“九五”期间设备的攻关虽有上报但目前仍然设有落实,材料方面加起来大体与“八五”差不多。 半导体设备属于高科技高投入的范畴,其特点是光机电结合,在精度要求上较纯机械要高得多。就现状来说,俞总认为我国半导体设备和材料与国外还有比较大的差距,究其原因一是国家的支持力度又不够,同时技术含量高,市场规模有限,整个产业就很难快速发展。 对半导体制造用的半导体材料来说,0.5微米、0.35微米技术用的材料国内材料制造企业还不能达到半导体行业的需要,究其发展不好的原因,与半导体设备情况同样是一个性质。一是半导体材料制造所用的设备投资大,技术难度也高,国家投资力度不够,很难形成规模生产,没有规模生产其成本高,材料批次的稳定性一致也就不好;二是归口管理机制上带来了一定的难度,如电子化工材料高纯化学试剂、电子气体、硅材料等,原归口管理在化工部,有色金属工业总公司等,对这些主管部门来说其重点不在电子材料,对电子材料的投入不可能作为他们的投资重点,而电子行业自己生产,国家又不允许,这也是制约半导体材料发展的原因之一,三是半导体材料生产线所用引进设备不能享受与半导体器件和电路那样的优惠关税,致使难以下决心来进行技术改造。因此,半导体制造企业,特别是合资独资企业用的诸如高纯化学试剂、电子特种气体、多晶硅材料等等,90%以上依靠进口,国产化进展步履艰难。 



  研讨展览发挥交流合作的作用 



  从1992年开始,国际SEMI就要求在国内与我国同行开展一些交流活动,同时也邀请我国有关方面参与其在美国的展览活动,进行更加密切的合作交流。当时还在机电部的时期,有关部领导也同意了国际SEMI的这一要求,成立了一个SEMI中国活动协调小组,这是非常设的,主要起一个协调交流作用,通过技术的交流、技术的合作来促进半导体产业包括国内的设备和材料行业的发展,及时了解国外的发展情况。这之后我一直担任中国活动协调小组的主任,当时是机电部、化工部、有色金属总公司、上海市科委、国家技术监督局(现在叫国家质量技术监督局)等共同发起,大家都非常重视,协调小组不定期地开展一些活动,这几年我们也组织了一些展览和研讨会,也组团参观了SEMI的一些展览,另外也组团到SEMI成员单位参观,也利用了SEMI的标准来作为我国材料和设备的标准,在一定程度上促进了我国材料和设备的发展。 展览和研讨为何每年要举办?一是中国半导体市场每年在发展,而且应用市场确实很大,半导体设备基本要进口,而我们需要通过交流来跟上国际的步伐。SEMI看到中国半导体要有大的发展,去年中国用集成电路达100亿块,其中90%依靠进口,去年东南亚、欧美等市场基本上保持平稳,而中国市场却仍有较大增长。这种活动的开展是为国内厂家搭台沟通,促进国外SEMI的成员单位能够了解中国,而我们则可了解这些公司及其技术。 对于这次研讨会的主要内容一是谈到了0.25微米甚至0.15微米技术,国内目前技术水平是上海华虹的0.35微米,国际上大生产技术已经开始采用0.25微米,接下去是0.18微米。第二个是铜布线技术,即以铜代铝,。第三个是化学机械抛光(CMP)技术。第四个是过程自动化控制、产品成品率的管理控制。另外就是封装技术、测试技术,还有 300毫米硅片,也讲到国际SEMI标准化的问题。内容总体来说还是非常丰富。 对于国内的设备厂家,通过研讨会,到底会有什么样的帮助呢?俞总认为一个是展览会上可以看到国外先进半导体设备样机,可以为自己的研制得到一些启示,另一个是研讨会中专家们可以与国个的设备专家进行面对面的探讨交流,从中了解到一些半导体设备发展的动向及技术趋势。SEMI标准讲座可为我们的材料设备制造提供技术依据,帮助我们的生产制造。 

信息产业部电子第四十八研究所是国内唯一以三束(电子束、离子束、分子束)为主的半导体微细加工设备研究、开发、生产的专业研究所。全所现有职工900余人,科技人员占职工总人数的50%以上,其中研究员级高工13人,高级工程师96人,工程师285人,有突出贡献享受政府津贴的专家14名。专业配套、技术力量雄厚。拥有计算机辅助设计(CAD)和全自动钣金加工、数空机床等先进的设计加工手段和检测仪器。开发能力强,与市场结合紧是我所的最大特色。

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企业名称:信息产业部电子第四十八研究所



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企业简介:

  信息产业部电子第四十八研究所是国内唯一以三束(电子束、离子束、分子束)和工业烧结设备为主的研究、开发、生产的专业研究所。全所职工900余人,科技人员占职工总数的50%以上,其中研究员级高工13人,高级工程师96人,工程师285人,有突出贡献享受政府特殊津贴的专家14名。专业配套,技术力量雄厚。拥有计算机辅助设计(CAD)一全自动钣金加工、数控机床等先进的设计加工手段和检测仪器。开发能力强,与市场结合紧是我所的最大特色。建所30多年来,根据国家发展和市场需求,我所研制开发出多种具有先进水平的半导体微细加工设备、电子工业窑炉、真空设备及其他热工设备,为军事、民用电子元器件和材料的研究、开发、生产提供了1300多台(套)设备,产品覆盖全国25个省和直辖市的81个地区。在这些设备中,有120多项成果通过了省部级以上鉴定,82项获重大科技成果奖,其中28项填补国内空白,36项达到国内外先进水平,11项列入国家替代进口产品,其中LC-4型700Kev高能离子注入机获1989年原机械电子工业部科技进步特等奖。 

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