Cadence发布了针对IBM-Chartered工艺平台的优化纳米设计的90纳米设计参考流程
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2004-07-12 00:00
前言:
Cadence设计系统公司5月24日宣布,一个合格的设计参考流程通过了可用性验证,该参考流程可与IBM-Chartered 90纳米工艺平台兼容。Cadence设计参考流程可与由Artisan公司为IBM-Chartered跨平台设计合作计划(design enablement program)提供的知识产权(IP)无缝结合。在同IBM公司的共同开发下,基于Cadence Encounter数字IC设计平台的RTL-to-GDSII设计参考流程在整个设计链中都实现了优化。它为芯片设计师们完成从RTL到硅芯片(first-pass silicon)的片上系统(SoC)设计提供了可预测的途径。
该设计参考流程融合了Cadence当前的主流技术,包括Encounter RTL Compiler全局综合器、Encounter Test解决方案以及NanoRoute统一布线及物理优化技术。
该共同开发的设计参考流程使用了以布线为中心的方法,解决了关键的90纳米SoC问题(包括低能耗设计、信号完整性以及测试设计等各个方面)并实现了较高的硅质量(QoS)。QoS使用布线来衡量一个设计的物理特征,包括改进的面积利用率、更高的性能以及更低的能耗。
Cadence同时提供90纳米设计参考流程工具包,希望获得此工具包的专业人士可写信给IBM_Foundry_Support@cadence.com。相关信息,敬请访问:http://www-06.ibm.com/chips/techlib/techlib.nsf/productfamilies/Foundry