近日，应用材料公司宣布推出业界最快速最经济的CVD（化学气相沉积）主机－－Applied Producer® GT™，把硅片生产能力提升到了一个新的水平。该产品每小时可处理150片硅片，产量达到其他竞争系统的两倍，从而降低了30%的拥有成本，并将单位面积每小时硅片处理数量提高了50%。Producer GT全面支持所有应用材料的PECVD（等离子强化化学气相沉积）技术应用，并囊括了超过30项世界级已被生产验证的工艺。
应用材料薄膜事业部资深副总裁兼总经理Farhad Moghadam博士表示：“ Producer GT具有高速的处理能力、低廉的拥有成本和已被验证的工艺结果, 这正是我们客户梦寐以求的产品。 随着尖端器件所使用的薄膜变得越来越薄，沉积工艺设备必须具备更快的速度和更高的效率，从而将制造厂的利用率最大化。Producer GT开发于我们极其成功的Producer系统之上。45纳米及更小节点上全系列PECVD（等离子加强化学气相沉积）的应用都可以直接在这个更快的主机上实现。客户对于GT的良好反应让我们非常振奋，产品的市场需求也很旺盛。”
Applied Producer GT主机出色表现的关键来自于FX机械手，它可以同时传递4片硅片，从而使配置3个Twin Chamber® 的Producer GT的生产能力最大化。该主机的双层进片腔缩短了硅片传送时间，提高了反应腔利用率。 旨在降低缺陷的硅片传送部件设计在保持高产能的同时，使来自于机械运动所产生的颗粒污染降低了30%。 高容量的厂区界面最高可支持4个FOUP（前端开口统一规格硅片盒），具有高效率的运作和整合于其中的测量能力。Producer GT还经过重新设计，大大提升了产品适用性，最高可降低25%的预防性维护时间。
应用材料公司的Metron事业部还提供定制节能真空泵和尾气处理系统套装，最高可进一步减少40%的运行成本。Marathon™ 8600是唯一单机就能支持Producer GT的三反应腔设计的尾气处理系统。
我们在全球的客户已经购买并正在使用超过1500台Producer CVD系统。Producer系统被业界每个芯片制造厂商用于制造各种类型的产品，直至最先进的45纳米技术节点。Producer在所有的先进芯片制造应用中建立了应用材料公司的技术领导地位，包括低k值、应力工程、光刻薄膜、热处理薄膜和高温PECVD等。
应用材料薄膜事业部资深副总裁兼总经理Farhad Moghadam博士表示：“ Producer GT具有高速的处理能力、低廉的拥有成本和已被验证的工艺结果, 这正是我们客户梦寐以求的产品。 随着尖端器件所使用的薄膜变得越来越薄，沉积工艺设备必须具备更快的速度和更高的效率，从而将制造厂的利用率最大化。Producer GT开发于我们极其成功的Producer系统之上。45纳米及更小节点上全系列PECVD（等离子加强化学气相沉积）的应用都可以直接在这个更快的主机上实现。客户对于GT的良好反应让我们非常振奋，产品的市场需求也很旺盛。”
Applied Producer GT主机出色表现的关键来自于FX机械手，它可以同时传递4片硅片，从而使配置3个Twin Chamber® 的Producer GT的生产能力最大化。该主机的双层进片腔缩短了硅片传送时间，提高了反应腔利用率。 旨在降低缺陷的硅片传送部件设计在保持高产能的同时，使来自于机械运动所产生的颗粒污染降低了30%。 高容量的厂区界面最高可支持4个FOUP（前端开口统一规格硅片盒），具有高效率的运作和整合于其中的测量能力。Producer GT还经过重新设计，大大提升了产品适用性，最高可降低25%的预防性维护时间。
应用材料公司的Metron事业部还提供定制节能真空泵和尾气处理系统套装，最高可进一步减少40%的运行成本。Marathon™ 8600是唯一单机就能支持Producer GT的三反应腔设计的尾气处理系统。
我们在全球的客户已经购买并正在使用超过1500台Producer CVD系统。Producer系统被业界每个芯片制造厂商用于制造各种类型的产品，直至最先进的45纳米技术节点。Producer在所有的先进芯片制造应用中建立了应用材料公司的技术领导地位，包括低k值、应力工程、光刻薄膜、热处理薄膜和高温PECVD等。
