英特尔将投入70亿美元于美国打造制造设施 两年计划32nm制程技术

本文作者:admin       点击: 2009-03-10 00:00
前言:
英特尔总裁暨执行长欧德宁 (Paul Otellini) 2月10日于美国华盛顿特区宣布,该公司将于未来两年间投资70亿美元,在美国打造先进制造设施。该投资将投入布建英特尔领导业界的32nm制程技术,用来制造更快、更小、耗电更少的芯片。

该项投资承诺为英特尔有史以来对单一新制程的最大笔投资。
“我们投资美国,使英特尔和美国保持创新领导地位。”欧德宁表示:“这些制造设施将生产全世界最先进的计算机运算技术。我们的32nm厂房具备非凡的能力,所生产的芯片将成为数字世界的基石,其产生之经济效益远超过信息产业范畴。”

英特尔将投资在现有位于奥勒岗州、亚利桑那州及新墨西哥的厂区,并于这些厂区提供约7000个高薪资、高技能的工作机会。包括这些新的工作机会在内,英特尔在美国拥有超过45,000名员工。英特尔虽有75%以上的业务营收来自于美国境外,但其75%的半导体产品均在美国制造。同时,英特尔约75%的研发支出和资本投资也投入于美国境内。 

该技术运用英特尔制程来制作32nm芯片电路,这是非常小的原子层级结构。
第一颗运用这种技术制造的英特尔处理器,代号为“Westmere”,初期将运用在主流型桌上型及笔记本电脑产品上。 Westmere结合了英特尔最新的高效能微架构 (代号“Nehalem”) 和内建于处理器内的绘图功能。相较于现有系统,计算机制造商更能提升效能并简化系统制造。优异的32nm制程和产品的健全发展使英特尔得以于2009年开始加速生产Westmere。其余32nm产品将于2010年问世。