半导体业界中单晶圆湿式清洗技术市场领先者和首要的技术创新者SEZ（瑟思）集团(瑞士股票交易市场SWX代码：SEZN)于宣布，诚邀 Glenn Gale博士出任新创立部门－前段工艺过程 (FEOL) 清洗项目部副总裁职位，负责管理SEZ集团全球FEOL清洗制程工艺。在全球客户的范围内，指导公司FEOL清洗解决方案的引进和实施，集中关注围绕65-纳米和45-纳米技术标准的直接需求。Gale博士将直接向集团先进制程工艺管理部负责制程工艺应用的高级副总裁Ernst Gaulhofer汇报工作。
Gale是半导体表面处理和清洗技术的世界级专家，在加入SEZ之前，他担任东京电子美国公司（Tokyo Electron America）清洗系统业务部的首席技术专家，负责管理和指导公司的高级清洗技术。在TEL之前，Gale博士曾服务于半导体行业研究机构International SEMATECH前端工艺部门表面处理项目经理，同时他也是国际半导体技术规划（ITRS）机构表面处理部门的综合发展专家。在这之前的十年，Gale任职国际商用机器公司（IBM），曾担任湿式化学溅射和全程处理器的制造设备工程师，和硅晶圆清洗和蚀刻的制造工艺工程师职务。
Gale是半导体表面处理和清洗技术的世界级专家，在加入SEZ之前，他担任东京电子美国公司（Tokyo Electron America）清洗系统业务部的首席技术专家，负责管理和指导公司的高级清洗技术。在TEL之前，Gale博士曾服务于半导体行业研究机构International SEMATECH前端工艺部门表面处理项目经理，同时他也是国际半导体技术规划（ITRS）机构表面处理部门的综合发展专家。在这之前的十年，Gale任职国际商用机器公司（IBM），曾担任湿式化学溅射和全程处理器的制造设备工程师，和硅晶圆清洗和蚀刻的制造工艺工程师职务。
