SEZ 提供台灣晶圓代工廠商第一套單晶圓洗淨工具

本文作者:admin       点击: 2003-12-01 00:00
前言:
半導體產業單晶圓洗淨技術創新業者與市場領導廠商SEZ Group宣佈該公司最新發表的DV-38F系統已獲得台灣某知名晶圓代工領導廠商的採用。DV-38F單晶圓溼式洗淨旋轉處理工具,是第一套哂肧EZ創新Da Vinci™平台的產品─一套能滿足90奈米及其以下設計規格的新一代元件之生產需求,提供穩定的處理效能與高產量的模組化多重反應爐架構。此知名代工領導廠商哂肧EZ的DV-38F針對內含銅導線IC的12吋晶圓的後段製程(back-end-of-line; BEOL)中進行聚合物洗淨作業。
Da Vinci 技術平台是專為協助業界加快從多重晶圓處理轉移至單晶圓技術而設計。促使業界轉移至單晶圓方案的動力,大多來自於持續縮小的設計規格及像是銅導線與低介係數等新材料帶給製程的嚴格要求。特別是在90奈米以下製程生產高長寬比IC的晶片製造商與晶圓鑄造業者,他們發覺批次技術無法像單晶圓工具一樣有效率地洗淨這類結構的元件。Da Vinci的組件規格(footprint)是單晶圓系統中最小的,且仍有充裕的空間支援服務與維修作業。此外,系統哂靡惶壮墒斓臋C械處理技術提供高流量的處理速度,讓SEZ接近溼式批次的能力界線並維持最佳的系統咦鲿r間。